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“我们的问题不仅仅是找不到，而是有些问题即便找到了，也没有办法解决。”
会议只是开始，会后，翟竖与沪州微电子的工程师们一同探讨着某些问题。
虽然工程师们也没有寄希望于翟竖能够解决，但既然翟竖问道了，他们也就如实回答了，根据最新的授权，除非绝密级，其他的东西可以对翟竖不设防。
“嗯。”
翟竖看着刚刚工程师们提出的一个问题，脑子里也在飞速的转圈，他在思考芯片生产过程中的一些细节。
既然同样的设备有一个能够达到一定的实验室良好水平，那说明元器件本身是有这个能力的，之所以良率差，肯定是工艺细节方面的原因。
“掩膜版与晶圆的对准工艺...”翟竖嘟哝着。
“是，掩膜版与晶圆的对准至关重要，它将直接限制芯片的集成密度和电路的性能。”立即就有工程师接话：
“步进扫描投影光刻机在对准的过程中，晶圆片并不直接对准掩膜，而是圆片和掩膜经过各自的光路，对准于曝光系统的光学链上。
“而这两个过程的精准匹配非常重要，些微的系统误差对芯片的性能就会产生影响。”
另一名工程师点了点头，肯定道：“是这样的没错，现在就有一个巨大的问题，当光刻机光源大量的光穿过掩膜时，不可避免的会造成掩膜材料的发热。
“热胀冷缩，这对于任何材料来说都是一个无法避免的，即便是掩膜版采用了热膨胀系数极低的材料，在0.71度的温度变化下也会产生0.1微米的膨胀。
“可不要小看这0.1微米，就是它造成的掩膜版和晶圆片的对准精度误差，从而影响了之后的曝光精度和制程工艺。”
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