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公司现在研发的半导体设备,就是第三代光刻机。
在这里,有必要介绍一下光刻机的发展历程。
首先是光刻机的代际划分,其实是按光源算的,波长越短越先进。第一二光刻机分别是接触、接近式光刻机,光源是不同类型的汞灯,但一个产品不良率高,一个要用到介质容易影响成像,都不太理想。
直到第三代,光源改成了氟化氪准分子激光,工作方式变成了扫描投影光刻。一旦完成研发,制程最低将缩小到一百八十纳米水平。
而第四代光源则是氟化氩准分子激光,工作方式是步进扫描投影光刻跟浸没式步进扫描,前者制程最低达到65纳米,后者达到22纳米。
而第五代,就是后来熟知的极紫外光刻机,也就是三十年后卡脖子的那款。
目前,尼康、佳能以及ASML已经推出了第三代光刻机,第四代研发中。
而徐柠他们的第三代光刻机,进展比原本计划的更快,预计明年春天就能完成研发,第四代则在预研中。
话说,到了第三代其实就是分水岭了,因为是全新技术,难度直线上升,能完成研发的全世界一只手都能数过来。
从这名单也能看出来,玩家正在急剧减少,没办法,光刻机这东西,风险大,而且极其烧钱,重点是,在不垄断的前提下赚的其实并不是很多。
风险大,是技术路线选择的问题,这东西可不是一条线往前走就可以了,而是有很多岔路,谁也不知道哪个能成。像第四代光刻机中的浸没式,尼康跟佳能就是选错了技术方向,结果花巨资研发出产品后跟ASML的浸没式一对比才发现,完了!差的太多了。
技不如人,市场自然也就没了。投资收不回来,而且眼看着追不上人家了,再投钱也是无用功,那就只能放弃。
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