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“当前，业界euv主要采取的办法，是将二氧化碳激光照射在锡等靶材上，激发出13.5nm的光子，作为光刻机光源。”
辛启天说着，脸上一副不以为然的样子。
身为开挂大佬，时间长了，自然要有这样的骄傲情绪。
尽管他自己在这些领域中，并没有任何新技术新知识点的研发，仅仅是已经学习熟知当前体系。
但是，依靠强大的开挂后的能力，让辛启天非常敏锐的察觉，其实现有的光刻机技术，非常简陋。
光刻是集成电路最重要的加工工艺，就好比传统制造业车间中车床的作用。
在整个芯片制造工艺中，几乎每个工艺的实施，都离不开光刻的技术。
光刻也是制造芯片的最关键技术，占据芯片制造成本的35以上。
在如今的科技与社会发展中，光刻技术的增长，直接关系到大型计算机的运作等高科技领域。
而现如今的光刻机，其实仍然处于最原始的量变积累。
运行时，依靠庞大的电力吞吐，吸取足够庞大的能量，来让机器运作！
大力出奇迹嘛，就像是前几个世纪中，军工产品里，人们全都盯着重大火炮去研究！
谈到了详细的技术信息，在场众人，有不少并不清楚。
于是乎，都没有再发言，纷纷一脸小学生认真脸。
“光刻机，有点类似于照相机照相。照相机拍摄的照片是印在底片上，而光刻是刻电路图和其他电子元件。”
“把芯片制作所需要的线路与功能区做出来。利用光刻机发出的光，通过具有图形的光罩，对涂有光刻胶的薄片曝光。”
“光刻胶见光后会发生性质变化，从而使光罩上得图形复印到薄片上，薄片就有了电子线路图的作用。”
“光刻实时上，也不过六七十年发展历史。”
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